Produto Descrição
SOI stands for silicon-on-insulator, An SOI wafer is made up of 3 basic layers, a device layer, a BOX layer and a Handle layer. The BOX layer also called the Buried Oxide layer is trapped between the Device layer and the Handle layer.
SOI silicon wafers are ideal for high-performance ICs, such as microprocessors, porque they provide a more stable and reliable foundation for the circuitry. Adicionalmente, they are well-suited for wireless communication devices, which require low power consumption and high speed data transfer in order to function efficient.
No geral, SOI silicon wafers offer significant advantages over traditional silicon wafers, making them a critical component in the manufacture of modern electronics.
We can provide diameter of 2"-12", top silicon thickness of 55nm-500um, buried oxygen layer thickness of 175nm-16um.
Sibranch oferta SOI wafers of the following types:
Grosso SOI Wafer
Este tipo de wafer has device thickness from 1µm to 300µm.
Ultra-fino SOI Wafer
Este tipo de wafer tem dispositivo espessura <500nm.
Ultra-uniforme SOI Wafer
Uniformidade de dispositivo espessura pode ser as baixa as ±0.5µm for thick SOI e ±10nm for ultra-fino SOI.
Ultra-Flat SOI Wafer
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Diâmetro |
76, 100mm, 125mm, 150mm, 100mm, 300mm |
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76mm, 100 mm, 125 mm, and 150 mm |
2-50 +/- .5μm, 0.1~1+/- .025μm |
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50-150 +/- 1μm |
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>150 +/- 2μm |
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6-50 +/- .5μm |
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200 milímetro |
50-150 +/- 1μm |
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>150 +/- 2μm |
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Óxido Camada Espessura |
Padrão – .5μm, 1μm, and 2μm |
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Opcional – .1 – 10μm |
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Alça Wafer Espessura |
3", 100mm – 300μM E UP |
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125 mm, 150mm – 400μm and up |
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200mm – 500μm e up |
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Tolerância: Padrão +/- 25μm |
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Especial +/- 5μm |
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Dopantes |
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P Tipo – Boro |
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Resistividades |
Maioria resistividades disponível on request incluindo alta resistividade Float Zone e baixa resistividade CZ |
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Orientação |
<1-0-0> Padrão, <1-1-1> e <1-1-0> Opcional em solicitação |
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Padrão tolerância +/- .5 grau |
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Especial tolerância as baixa as +/- .1 grau |
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Plano Orientação |
Tudo major flats/Notches are on the <110> Plano +/-.5 grau |
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Mais apertado specificatioin available upon request |
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Semi std minor flats are standard on 76.2 and 100mm |
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Duplo lado polido padrão |
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Opcional backside acabamentos – nano grind or oxide |
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Revestimentos |
Óxido e nitreto pode ser fornecido em ambos lados de o wafer. |
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Opcional Íon Implantado Sepultado Camada |
Produto Imagem
Porque escolher-nos
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Nosso objetivo é fornecer aos clientes suporte individual e abrangente, garantindo canais de comunicação tranquilos, profissionais, oportunos e eficientes. Oferecemos uma quantidade mínima de pedido baixa e garantimos uma entrega rápida em 24 horas.
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Nosso vasto estoque consiste em 1000+ produtos, garantindo que os clientes possam fazer pedidos de apenas uma peça. Nossos equipamentos próprios para corte em cubos e retificação e total cooperação na cadeia industrial global nos permitem envio imediato para garantir satisfação e conveniência completas do cliente.
Nosso certificado
Nossa empresa se orgulha das diversas certificações que conquistamos, incluindo nosso certificado de patente, certificado ISO9001 e certificado National High-Tech Enterprise. Essas certificações representam nossa dedicação à inovação, gestão da qualidade e compromisso com a excelência.
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