Descrição do produto
O wafer de óxido de silício é um material avançado e essencial usado em diversas indústrias e aplicações de alta tecnologia. É uma substância cristalina de alta pureza produzida pelo processamento de materiais de silício de alta qualidade, tornando-a um substrato ideal para diversos tipos de aplicações eletrônicas e fotônicas.
Os wafers de óxido de silício são amplamente utilizados na indústria de semicondutores, onde servem como plataforma para a fabricação de microchips e outros dispositivos eletrônicos. Com suas excelentes propriedades elétricas e térmicas, os wafers de óxido de silício são essenciais para a produção de circuitos integrados, chips de memória e muitos outros dispositivos eletrônicos.
Além da indústria eletrônica, os wafers de óxido de silício também são amplamente utilizados em aplicações fotovoltaicas ou de células solares. Serve de base para a fabricação de células solares, onde atua como uma camada que ajuda a melhorar a eficiência das células, reduzindo a refletância da superfície e aumentando a absorção de luz.
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Técnica de oxidação |
Oxidação úmida ou oxidação seca |
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Diâmetro (polegada) |
2″ / 3″ / 4″ / 6″ / 8″ / 12″ |
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Espessura do Óxido |
10nm~15µm |
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Tolerância |
+/- 5% |
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Superfície |
Oxidação de lado único (SSO) / Oxidação de lado duplo (DSO) |
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Forno |
Forno tubular horizontal |
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Gás |
Gás hidrogênio e oxigênio |
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Temperatura |
900 graus ~ 1200 graus |
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Índice de refração |
1.456 |
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