O que é um entalhe de wafer?
Um entalhe é uma pequena ranhura cortada diretamente abaixo de uma pastilha de silício, geralmente em formato de V ou U. O entalhe tem duas funções. Uma é marcar a orientação do cristal do wafer de silício, como<100>, <110>, <111>, etc. A outra função é permitir que o wafer de silício seja corretamente posicionado e alinhado em equipamentos de fabricação de semicondutores. Geralmente, os entalhes são encontrados em wafers de 8-polegadas e 12-polegadas.
Qual é a aparência do Notch?
O tamanho do entalhe deve obedecer rigorosamente às normas SEMI, conforme figura acima:
1. Vw representa a largura total do entalhe e seu tamanho está relacionado ao diâmetro e espessura da pastilha de silício.
2. Vh é a profundidade do entalhe, que indica a distância vertical da borda da pastilha de silício até a parte inferior da ranhura. Geralmente varia de 1,0 a 1,25 mm. Vh é crucial para garantir a precisão do alinhamento do entalhe.
3. AngV, ou seja, ângulo de entalhe. AngV é o ângulo do entalhe, que é o ângulo entre as bordas da ranhura em ambos os lados. Geralmente é entre 89 graus e 95 graus. Este ângulo desempenha um papel decisivo na geometria e no posicionamento do entalhe.
4. R1 e R2 representam os raios dos cantos em ambos os lados do entalhe. Esses dois raios determinam a suavidade dos cantos da ranhura, afetam a concentração de tensão do entalhe e afetam as propriedades mecânicas da pastilha de silício.
5. Vr é o raio de curvatura na parte inferior do entalhe, indicando o tamanho do arco na parte inferior da ranhura. VR pode alterar a forma da curva e a suavidade do entalhe. Um Vr maior pode tornar a parte inferior do entalhe mais plana, o que ajuda a reduzir a concentração de tensão.
6. Orientação do entalhe: A direção da ranhura é paralela à orientação específica do cristal do wafer e um desvio de ± 2 graus é permitido.
