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Parâmetros técnicos

Descrição do produto

O substrato de safira nua, também conhecido como wafer de safira nua, é um material altamente durável e versátil, amplamente utilizado em uma variedade de indústrias. Feito de cristal de safira puro, este substrato oferece excepcional dureza, resistência a arranhões e estabilidade térmica, tornando-o ideal para uma variedade de aplicações.

Um dos principais usos do substrato de safira pura é na produção de eletrônicos de alto desempenho, como LEDs, dispositivos de energia e circuitos integrados. Os wafers de safira podem ser usados como substrato para o cultivo de camadas epitaxiais de alta qualidade, o que ajuda a melhorar o desempenho e a confiabilidade desses dispositivos.

Além de suas aplicações eletrônicas, o substrato de safira pura também é usado em indústrias como aeroespacial, defesa e óptica. Sua alta resistência e resistência a temperaturas e produtos químicos extremos o tornam ideal para uso em ambientes agressivos e exigentes. Janelas e lentes de safira são frequentemente usadas em aplicações aeroespaciais e de defesa, enquanto rolamentos e vedações de safira são usados em ambientes de alta pressão e alta temperatura.

produtos	Diâmetro / Tamanho	Orientação	Espessura (mm)	Tipo	Parte frontal / parte traseira
Substrato de safira	2″ / 3″ / 4″ / 6″ / 8″ / Quadrado / 1″ / 2,5″ / 5″ / Especificações especiais.	C/C desligado M/C desligado A/R/ A/M/N/Especificações especiais.	{{0}},18 / 0,2 / 0,25 / 0,33 / {{10}},43 / 0,5 / 0,65 / 1,3 / Especificações especiais.	Único lado polido	Epi-polido / retificado fino
	2″ / 3″ / 4″ / 6″ / 8″ / Quadrado / 1″ / 2,5″ / 5″ / Especificações especiais.	C/C desligado M/C desligado A/R/ A/M/N/Especificações especiais.	{{0}}.2 / 0.25 / 0.33 / 0.43 / 0.5 / 0,65 / 1,3 / Especificação especial .	Dupla face polida	Epi-polido / Epi-polido
Substrato de safira padrão	2″ / 4″	C/C desligado M	0.43 / 0.65	PSS	Preparado para epitaxial / retificado fino

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