Wafers de silício de orientação-especiais para suportes de amostra de fundo XRD Zero-: uma explicação detalhada dos requisitos de orientação

Em experimentos de-difração de raios X (XRD), o uso de um substrato-de fundo zero pode reduzir significativamente a interferência do próprio substrato no sinal de difração da amostra, resultando em padrões de difração de maior qualidade.Seleção de orientação de cristalé um dos principais fatores para atingir-desempenho em segundo plano zero.

Princípio Fundamental

A seleção da orientação do cristal para substratos-de fundo zero segue um princípio simples:Coloque o pico de difração principal do substrato de silício fora da faixa de varredura 2θ comumente usada em experimentos, evitando assim a interferência com o sinal de difração da própria amostra.

A faixa de varredura dos experimentos convencionais de XRD em pó está principalmente concentrada em5 graus - 90 graus (2θ), portanto é necessário selecionar uma orientação de cristal especial de modo que o pico de difração característico do silício apareça fora dessa faixa.

Orientações especiais comumente usadas

1. <510>Orientação

• Características de difração: O principal pico de difração do silício aparece em um ângulo 2θ relativamente alto, que excede a faixa de varredura comumente usada em experimentos convencionais de XRD. Portanto, quase nenhum pico óbvio de difração do substrato de silício aparecerá na faixa de 5 graus a 90 graus.
• Vantagens: Excelente desempenho de fundo-zero, atualmente a orientação de substrato de fundo-zero mais comumente usada em pesquisas científicas.
• Aplicabilidade: recomendado para a maioria dos experimentos convencionais de XRD, especialmente testes de XRD em pó e de baixo ângulo-de XRD.

2. <511>Orientação

• Características de difração: Semelhante a<510>, seu pico de difração característico também está localizado fora da faixa experimental convencional e não causará interferência significativa ao sinal da amostra.
• Vantagens: também oferece excelente desempenho-em segundo plano.
• Aplicabilidade: Outra escolha convencional, alguns pesquisadores preferem esta orientação baseada na configuração do instrumento ou hábitos experimentais.

Por que as orientações convencionais não são adequadas?

As orientações de wafer de silício mais comuns no mercado são<100>e<111>, mas não são adequados para nenhum-substrato de fundo:

Portanto, embora as orientações convencionais estejam prontamente disponíveis, elas não são absolutamente recomendadas para experimentos de XRD de fundo zero.

Guia de seleção de orientação

1. Selecione com base no intervalo de teste: se seu experimento se concentrar principalmente na região de ângulo-baixo (XRD de-ângulo pequeno), ambos<510>e<511>podem atender à demanda e ambos têm bons-efeitos de fundo zero.
2. Selecione com base no hábito pessoal: Diferentes laboratórios podem ter hábitos de uso tradicionais. Ambas as orientações são amplamente aceitas no meio acadêmico e você pode escolher de acordo com sua própria experiência.
3. Personalização de pequenos lotes: Orientações especiais não podem ser obtidas no inventário convencional e requerem corte personalizado. Oferecemos suporte à personalização em pequenos-lotes de ambos<510>e<511>orientações, com pedido mínimo de 5 peças.

Tabela Resumo

Sobre nós

Ningbo Sibranch Microelectronics Technology Co., Ltd. pode personalizar e fornecer<510>ou<511>orientação XRD zero{0}}wafers de silício de substrato de fundo de acordo com os requisitos da pesquisa. Apoiamos tamanhos, espessuras e requisitos de tratamento de superfície especiais e aceitamos pedidos de pequenos lotes.

Site: www.sibranch.com|https://www.sibranchwafer.com/
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